Главная страница сайта | О веществе TiO2 |
Виды диоксида титана | Статьи о диоксиде титана |
шающих температуру плавления титана, т.е. с целью ускорения карбидизация проводится в твердо-жидком состоянии. Для определения оптимальных параметров процесса карбидазации титана в твердо-жидком состоянии выполнен теоретический расчет и проведены модельные эксперименты на сферических титановых частицах. Установлены условия нагрева, при которых пленка карбида титана, образующаяся при температуре ниже точки плавления титана (1668 °С), не изменяет толщины при нагреве в интервале температур 1670-2100 °С.
Предполагаем, что при температуре 1600°С на титане создана карбидная пленка толщиной .у. С увеличением температуры толщина карбидной пленки может изменяться под действием двух противоположных факторов: 1) уменьшения толщины в результате растворения карбида титана в жидком титане; 2) роста пленки карбида титана в результате диффузии углерода в карбиде титана. Если принять, что растворение карбида титана в жидком титане происходит очень быстро, то условие постоянства толщины карбидной пленки имеет вид:
где dqvjdT - количество углерода, диффундирующего через исходную карбидную пленку толщиной у в жидкий титан в единицу времени; dq2/dT — количество углерода, которое нужно для обеспечения равновесной концентрации при увеличении температуры в единицу времени.
При нарушении условия (3) пленка будет либо растворяться и разрушаться, либо увеличиваться и процесс карбидизации будет замедлен по сравнению с оптимальной его скоростью.
Если пренебречь кривизной поверхности, что можно сделать ввиду у<г (г — радиус частицы), то
4l=D{X)^—^-Sr; (4)
У
q2 = тжАс = УржАс, (5)
где D(T) — коэффициент диффузии углерода в карбиде титана; С\ — концентрация углерода на границе карбидного слоя со стороны графита; с2 — концентрация углерода на границе карбидного слоя со стороны жидкого титана; S — площадь контакта; V — объем жидкой фазы, заключенной в карбидной оболочке; рж — плотность жидкой фазы. Дифференцируя выражения (4) и (5), получим
dqi Si dD{T) dT dc2 dr]
OlL=-h r+D(T)} (Ci-c2)-D(T)t--—\; (6)
dT у I dT dr dT dr J
dq2 dAc dT
-= УРж —- —
dr dT dT
При решении уравнения (3) принимаем следующие допущения: 1. Концентрация углерода на границе карбидной пленки со стороны жидкого титана линейно зависит от температуры: с2 = куТу где ку -= 0,19 кг/(м3 - К). Значение кх определено с использованием диаграммы состояния TiC, приведенной на рис. 10, путем замены участка кривой солидуса отрезком прямой.
Рис. 10. Диаграмма состоянии системы Ti-C
t,°C 2800
2400
2000 1725 1600
1200
885 g__
800 Pa
400
Ж
(1750±20)°C
a+fi (920±3)°C
cx+S
0 2 4 6 8
12 14 16 C,%
2. Концентрация углерода на границе пленки со стороны графита не зависит от температуры и соответствует содержанию в стехиометрическом карбиде титана, т.е. равна 1000 кг/м3.
3.Плотность жидкого титана принимается рж = 3,8 • 103 кг/м3.
4. Считаем, что зависимость Ас от температуры носит линейный характер. Из граничных условий: с = с0 при т = 0 и Т = 1941 К и с = = с0 + к2 Т при г > 0 и Г = 1941 К находим, исходя из диаграммы состояния Ti-C, что Ас = к2Т, где к2 = 4,05 • 105 1/°С. Окончательно из уравнений (3) —(7) после преобразований и с учетом допущений получаем
5 fiw
—А,ехр(--Hc.-fc.r,)
dT Vy RT
~ =--- (8)
dT S Q Q 1 Q 1
Рж*г--Do e"P (--")t (— cl—---k,--*„)
Vy RT R T1 R T
Принимая во внимание приведенные выше численные значения констант, имеем:
|
На правах рекламы |
|
Место свободно |
|
Copyright © 2008-2012 TitanDioxide.Ru
Использование материалов сайта возможно при условии указания активной ссылки
Диоксид титана TiO2