Главная страница сайта О веществе TiO2
Виды диоксида титана Статьи о диоксиде титана


структуру карбидных осадков, начиная от нитевидйьгх кристаллов, "усов" (очень низкие температуры и малые концентрации углеводородов в газовой смеси) и кончая грубыми, шероховатыми осадками, состоящими из отдельных правильно ограниченных монокристаллов относительно больших размеров (высокие температуры). Гладкие, мелкозернистые осадки получают при средних температурах (1000—1100 °С) и умеренных концентрациях углеводородов в газовой фазе.

В последнем случае на начальной стадии процесса на подложке образуются зародыши, которые, разрастаясь, сливаются в сплошное покрытие. В дальнейшем толщина покрытия растет, как указывалось выше, по параболическому закону.

Кристаллическая ориентация карбида титана на стадии зародыше-образования зависит от состава и состояния подложки. В частности, при использовании в качестве подложки пластин сплава ТТ10К8Б при температуре 1050 °С сначала в слое преобладает ориентация зерен с плоскостями (200), параллельными поверхности основы, а затем, начиная с толщины покрытия 5 мкм, с плоскостями (111) [184].

Основными производителями оборудования для процесса CVD являются: акционерное общество "Берна Олтен" (Швейцария) и фирма "Сиентифик коатингз" (США), которые предлагают целый ряд моделей установок [185]. На рис. 73 представлена схема установки для нанесения покрытий методом CVD.

Имеются три типа установок для нанесения покрытий: однокамерная колпаковая печь модели 1Н-1 (для нанесения покрытий с добавками или без добавок оксида алюминия); двухкамерная колпаковая печь модели 1Н-2; соединение двух колпаковых печей моделей 2Н-4 с четырьмя камерами. Все камеры имеют примерно одинаковые внутренние размеры: высота 900, диаметр 360 мм. Температура нанесения покрытий составляет 750—10'50°С в зависимости от материала покрытия; скорость осаждения 3 мкм/ч. Потребляемая мощность одной печи 50—60 кВт.

Акционерное общество "Райнебург-Гема" (Швейцария) предлагает новую систему Компыс-статик, предназначенную для нанесения порошковых покрытий методом CVD с микропроцессорным управлением [186].

Технология получения покрытий из карбида титана заключается в следующем: деталь, на которую необходимо нанести, покрытие, тщательно очищается и помещается в реактор для нанесения покрытия. Герметизированный реактор вакуумируется для устранения кислорода, который является вредной примесью, и заполняется защитным газом. После нагрева реактора с деталями до температуры нанесения покрытия защитная атмосфера заменяется химически активными газами. В процессе нанесения покрытия давление химически активных газов (например, метана) должно поддерживаться постоянным. В качестве побочного продукта образуется НС1, который необходимо постоянно удалять

Технология получения покрытий из карбида титана

Рис. 73. Схема установки для ванесеиия покрытий методом CVD:

1 - газ; 2 — печь; 3 - фильтр; 4 — испаритель; 5 — реактор; б — насос

и нейтрализовать в водном растворе NaOH. Понижение давления способствует десорбции хлористого водорода с поверхности детали, на которую наносится покрытие. После нанесения покрытия химически активные газы заменяются инертным газом и изделия охлаждаются до комнатной температуры. Для получения высококачественного слоя карбида титана необходимо использовать очень чистые (прежде всего по кислороду) газы с минимальным содержанием влаги. За одну загрузку обрабатывается большое количество деталей.

Покрытия на твердосплавном режущем инструменте [187-193]

Зарубежные и отечественные твердосплавные предприятия непрерывно наращивают мощности по производству неперетачиваемых пластин с покрытиями на основе карбида титана. Например, в ФРГ объем производства неперетачиваемых пластин с покрытиями от общего выпус-

143


 

 

Вернуться в меню книги

 

На правах рекламы

Место свободно

agregat pradotworczy Honda, kodu z obrazka

 

Copyright © 2008-2012 TitanDioxide.Ru

Использование материалов сайта возможно при условии указания активной ссылки
Диоксид титана TiO2